LABORATORIO DE CRECIMIENTO DE PELÍCULAS DELGADAS POR PULVERIZACIÓN CATÓDICA (SPUTTERING)

Correos electrónicos de contacto: damonte@fisica.unlp.edu.ar, torres@fisica.unlp.edu.ar

Título del STAN: Crecimiento de películas delgadas por pulverización catódica (Sputtering)

Prestación y detalle: Se realiza el recubrimiento de sustratos y/o objetos pequeños con películas delgadas de diversos materiales (metales de transición, óxidos de metal de transición, etc). El proceso consta de la pulverización de un blanco por incidencia de iones energéticos de argón y la posterior deposición de los mismos sobre el sustrato a cubrir. Las películas pueden ser mono o multicapas con espesores entre los nanómetros y los micrones. Se pueden realizar los depósitos sobre sustratos a diferentes temperaturas y con diferentes atmósferas.

Equipo: Magnetron Sputtering Orion 8 UHV

Responsables:  Damonte Laura C. – Rodríguez Torres Claudia E.

Nota:  Este equipo está inscripto en el Sistema Nacional de Micro y Nano Fabricación

INSTITUTO DE FÍSICA LA PLATA - CONICET/ UNLP

+54 (0221) 6443202

iflp@fisica.unlp.edu.ar




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Diagonal 113 entre 63 y 64

La Plata (1900) - Buenos Aires - Argentina

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